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Cadence益華電腦客製化顯影技術 滿足22奈米半導體製造需求

客製化的顯影光源最佳化(Source Mask Optimization)解決方案 提供最佳化的製程容許度(Process Window) 協助加速量產時程

台灣. 16 Oct 2008

 

20081016日,台灣新竹: 全球電子設計創新領導廠商Cadence益華電腦宣布推出客製化顯影光源最佳化的軟體,這是Cadence益華電腦22奈米以下整合式顯影光源最佳化(Source Mask OptimizationSMO)技術系列中的全新功能。最佳化客製化顯影光源技術強化了製程容許度(Process Window),並提供22奈米半導體製造更佳的二維影像。

 

Cadence益華電腦與Tessera Technologies, Inc. (NASDAQ: TSRA)合作,將客製化顯影光源技術的製造概念(manufacturing awareness)融入SMO軟體技術系列中。全新功能已經整合到Cadence益華電腦解析度增強技術(resolution enhancement technologyRET)流程中,在單次與雙重曝光上皆適用,其便利性與自動化的優點更加速了技術開發,並縮短生產時程。

 

「要在22nm製程實現高良率,就必須充分利用繞射光學原理的彈性。」Tessera影像處理與光學執行副總裁Michael Bereziuk表示:「Tessera樂於與Cadence益華電腦合作。我們提供克服SMO挑戰的解決方案,並且充分運用設計專長與偏軸照明(off-axis illumination)方面的十年經驗。」

 

Cadence益華電腦與Tessera的合作以TesseraDigitalOptics™技術為焦點,實現當今最廣泛的控制能力,提供傳統、gray-tone以及free-form顯影光源。有效的顯影光源最佳化需要將充分的自由度與實際限制融入照明設計的法則中。 將這些先進的模型融入到Cadence益華電腦SMO軟體中,為整個使用者社群提供威力強大的新功能。

 

22奈米及以下的世代,既有的傳統電腦顯影技術,如model-based OPC RET等都不再足以提供精準的矽晶片成像。  Cadence益華電腦顯影光源最佳化技術可實現更精準的電腦顯影評估與折衷方案(assessments and tradeoffs),提高成像精準度與製造良率;而實現的關鍵就在於考量RET/OPC方法與模型、光罩可製造性規則、鏡頭光圈中的極化樣式、投影鏡頭的瓊斯矩陣(Jones matrix)、光阻層(resist stack)的光學參數、光阻擴散(resist diffusion)和其他關鍵因素。

 

Cadence益華電腦的技術之所以與眾不同,在於根據製程容許度(Process Window)來最佳化顯影光源與二維圖像,而非僅僅考量設計的臨界尺寸(critical dimensionCD)Cadence益華電腦顯影光源最佳化解決方案也適用於傳統與free-form照明模式。

 

「這項合作讓我們跨越傳統可製造性設計(DFM)的藩籬,邁向共同最佳化設計與製造的境界。」Cadence益華電腦silicon sign-off與最佳化副總裁Dipu Pramanik表示:「與Tessera合作,幫助客戶迅速實現電腦顯影設計的技術與目標,進而降低整體開發成本。」

 



 
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